Zinātniskās darbības atbalsta sistēma
Latviešu English

Patenti: Plāna daudzslāņu dielektriķa nogulsnēšanas paņēmiens

Patenta veids Latvijas
Patenta numurs LV15492B
Patenta pieteikuma numurs P-19-77
Nosaukums latviešu valodā Plāna daudzslāņu dielektriķa nogulsnēšanas paņēmiens
Nosaukums angļu valodā Deposition method of a thin multilayer dielectric
Patenta publikācijas (reģistrācijas) datums 20.10.2020
Patenta pieteikuma datums 23.12.2019
Autori Jurijs Dehtjars , Marina Romanova , Aleksandrs Zaslavskis , Genādijs Jeņičeks , Līga Avotiņa
Struktūrvienība (25200) Biomedicīnas inženierzinātņu un nanotehnoloģiju institūts
Kopsavilkums

Izgudrojums attiecas uz plānu daudzslāņu dielektriķu izgatavošanu no Si3N4 materiāla. Metode paredz vairāku vienāda ķīmiskā sastāva slāņu uzklāšanu vienu uz otra. Katrs nākamais slānis aizklāj iepriekšējā slāņa caurumdefektus. Si3N4 slāņus nogulsnē, izmantojot ķīmiskās tvaiku nogulsnēšanas paņēmienu, kurā notiek ķīmiska reakcija starp divām gāzveida izejvielām. Viena izejviela ir Si saturoša gāze, bet otra – NH3 gāze. Pēc katra slāņa nogulsnēšanas aptur Si saturošās gāzes padevi un veic nogulsnētā slāņa virsmas atkvēlināšanu 700-8000C temperatūrā NH3 gāzes plūsmā. Metode nodrošina caurumdefektu novēršanu.

Kopsavilkums angļu valodā

Invention relates to a method for fabrication of multilayer thin dielectric. Multilayer dielectric is formated by deposition of several layers of the same chemical composition on top of each other. At least two layers of Si3N4 are deposited on top of each other using chemical vapor deposition method in a chemical reaction between two gaseous reactants, wherein one reactant is a Si-containing gas and the other reactant is NH3 gas. After depositon of the first layer supply of Si-containing gas has been stopped and annealing the surface of the deposited layer is carried out at the temperature of 700-8000C in a flow of NH3 gas. The method prevents formation of pinhole defects in dielectric layers.

Līdzpieteicējs AS "Alfa RPAR"; Latvijas Universitāte
Patenta publikācija (saite uz Espacenet) https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/069783975/publication/LV15492A?q=LV15492